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1. 去溶干擾就是去除溶劑的干擾,主要是扣除背景.
2. 可以提高靈敏度,降低檢出限.
3. 去溶過程主要出現于分析液體樣品的原子吸收和ICP發射光譜，它是指將霧化后的液（濕）氣溶膠中溶劑揮發變為干氣溶膠的過程。對于ICP來說，因為加熱條件比較好，只要使氣溶膠在分析通道的停留時間足夠長，即使不用去溶裝置也可使分析物完全揮發，而基本上沒有什么去溶損失，所以ICP的去溶干擾并不十分明顯，更不是很重要。